1
Assuntos:
“...Microelectronics (Processes)...”
Deposição de silício policristalino por LPCVD.
Dissertação
2
Assuntos:
“...Microelectronics (Processes)...”
Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente.
Tese
3
Assuntos:
“...Microelectronics processes...”
Desenvolvimento de processos de fabricação de dispositivos óptico integrados em tecnologia de silício para aplicação em sensoriamento.
Tese
4
Assuntos:
“...Microelectronics processes...”
Fabricação e caracterização de MEMS de carbeto de silício (a-SiC:H) obtido por PECVD.
Dissertação
5
Assuntos:
“...Microelectronics (Processes)...”
Estudo e caracterização de filmes SIPOS para a passivação de dispositivos de potência.
Dissertação
6
Assuntos:
“...Microelectronics processes...”
Estudo e desenvolvimento de uma tecnologia CMOS-TFT à baixa temperatura (< 600ºC).
Tese
7
Assuntos:
“...Microelectronics (Processes)...”
Desenvolvimento de um sistema multicâmara integrado para deposição e recozimento de filmes \'SI\'\'O IND.2\'
Tese
8
Assuntos:
“...Microelectronics (Processes)...”
Caracterização elétrica de filmes finos de SiO2 - TEOS depositados por PECVD.
Dissertação
9
Assuntos:
“...Microelectronics processes...”
Caracterização de plasmas com a técnica de sonda eletrostática.
Dissertação
10
Assuntos:
“...Microelectronics (Processes)...”
Estudo e caracterização do processo PECVD-TEOS para a deposição de filmes de óxido de silício e estudo das interfaces.
Tese
11
Assuntos:
“...Microelectronics processes...”
Sistemas auto-organizados para aplicação em cristais fotônicos.
Dissertação