Caracterização de plasmas com a técnica de sonda eletrostática.

• Ano de defesa: 1998
• Autor(a) principal: Cirino, Giuseppe Antonio
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
• Palavras-chave em Português: Corrosão por plasma; Langmuir Probe; Microelectronics processes; Plasma corrosion; Processos de microeletrônica; Sonda de Langmuir
• Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-14102024-110323/

Neste tabalho foi realizado um estudo da técnica de sondas eletrostáticas para caracterização de plasmas utilizados em processos de microeletrônica, particularmente na corrosão seca por plasma. Esta técnica permite determinar parâmetros elétricos de plasma como densidade de plasma, energia média de elétron, potencial flutuante e potencial de plasma. Foi realizado um estudo comparativo de vários tipos de sondas entre elas, uma sonda simples com choque de RF, uma sonda simples com choque de RF e com eletrodo de compensação e uma sonda dupla. Primeiramente foi verificada a influência dos choques de RF com uma nova técnica, medindo-se com um osciloscópio a componente AC do potencial gerado pelo plasma, através do choque. Depois foram caracterizados plasmas de argônio com três tipos diferentes de sondas. Os resultados obtidos mostram que a sonda dupla permite obter a densidade de plasma e a energia média de elétron com maior precisão; a sonda com choque de RF e com eletrodo de compensação apresenta resultados mais confiáveis de potencial e plasma e potencial flutuante, em relação à sonda construída somente com o choque de RF. Foi feita caracterização de plasmas com gases utilizados nos processos de microeletrônica: argônio, oxigênio e hexafluoreto de enxofre.