Detalhes bibliográficos
| Ano de defesa: |
1992 |
| Autor(a) principal: |
Yamamoto, Roberto Katsuhiro |
| Orientador(a): |
Não Informado pela instituição |
| Banca de defesa: |
Não Informado pela instituição |
| Tipo de documento: |
Dissertação
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| Tipo de acesso: |
Acesso aberto |
| Idioma: |
por |
| Instituição de defesa: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
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| Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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| Departamento: |
Não Informado pela instituição
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| País: |
Não Informado pela instituição
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| Palavras-chave em Português: |
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| Link de acesso: |
https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09012025-092508/
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Resumo: |
A corrosão por plasma tem sido largamente utilizada na indústria microeletrônica, nas etapas de transferência de padrões. Particularmente, a corrosão de silício é utilizada para obtenção de trincheiras que encontram aplicação em capacitores utilizados em memórias e em isolações de dispositivos em circuitos integrados de alta integração. Com o objetivo de estabelecer um processo de corrosão de silício, foi feita a caracterização deste, utilizando-se o plasma de bromo-trifluor-metano e variando-se as condições de pressão, potência, vazão e composição. Corrosões anisotrópicas resultando perfis adequados as aplicações foram obtidas. A técnica de medida de propriedades do plasma com sondas de Langmuir foi demonstrada, utilizando-se uma sonda auto-compensada. A densidade de íon, a temperatura de elétron, o potencial de plasma e o potencial flutuante foram medidos para os plasmas de argônio, hélio, hidrogênio, oxigênio e nitrogênio, em função da pressão, potência, vazão e posição da sonda. Finalmente, a aplicação da sonda de Langmuir no estudo da corrosão por plasma foi mostrada, para o caso particular da corrosão de polímeros com plasma de oxigênio. |
