Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 1996
Autor(a) principal: Seki, Jorge
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/
Resumo: Este trabalho fundamenta-se no estudo do gerador de padrões óptico micropattern printer Research Devices Instruments (RDI) modelo imagem 100, instalado no Laboratório de Microeletrônica da EPUSP (LME-EPUSP), para o desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos de baixa complexidade com resoluções próximas a duas micra, melhorando muito o sistema fotolitográfico tradicionalmente utilizado no laboratório. Após a instalação do gerador de padrões e a inicialização dos trabalhos com o equipamento (projeto gepa - gerador de padrões), duas foram as dificuldades imediatas encontradas: os critérios de definição dos parâmetros de processo para o fotorresiste exposto no gerador de padrões e a definição dos parâmetros de exposição corretos com o equipamento, dentre as inúmeras possibilidades que o equipamento permitia. As dimensões de trabalho que se pretendiam com o equipamento tornavam o processo fotolitográfico crítico e fora dos padrões usuais do laboratório. Deparamos com uma falta, tanto do esclarecimento sobre algumas etapas do processo fotolitográfico, como também do conhecimento sobre o sistema óptico de exposição do equipamento. Devido a estas dificuldades básicas este trabalho foi proposto.