Referência de acordo com a norma APA

Seki, J. (1996). Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.

Referência de acordo com a norma Chicago

Seki, Jorge. Desenvolvimento De Técnica De Confecção De Fotomáscara/retículos Usando Gerador De Padrões. 1996.

Referência de acordo com a norma MLA

Seki, Jorge. Desenvolvimento De Técnica De Confecção De Fotomáscara/retículos Usando Gerador De Padrões. 1996.

Nota: a formatação da citação pode não corresponder 100% ao definido pela respectiva norma, para gerenciar as citações recomenda-se a utilização do software Zotero , que permite o upload automático das referências do Oasisbr.