Comparação entre as estruturas CMOS cavidades duplas e CMOS cavidades gêmeas com relação ao efeito tiristor parasitário.

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 1995
Autor(a) principal: Romanelli, Cláudia Côrtes
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-08082024-073127/
Resumo: As estruturas CMOS cavidades duplas e CMOS cavidades gêmeas representam tecnologias-base utilizadas em dispositivos de última geração. Comparações entre os dois tipos de estrutura visam estudar a melhor profundidade da cavidade do mesmo tipo do substrato, com relação ao comportamento do transistor imerso na cavidade alterada e parâmetros de isolação. O trabalho apresentado a seguir concentrou-se na comparação entre as duas estruturas CMOS através do efeito tiristor parasitário, uma das principais limitações a redução de dimensões em dispositivos VLSI. Este efeito é diretamente ligado as dimensões dos dispositivos e também ao perfil das cavidades. O estudo teórico das duas estruturas foi feito através dos simuladores supremiii, supremiv e piscesiib. Segue-se a produção de lâminas de teste com diodos, jfet\'s de cavidade e tiristores parasitários para as medidas elétricas comparativas. Os resultados teóricos e práticos são confrontados de modo a compor uma análise do comportamento do latch-up para as estruturas CMOS em questão.