Desenvolvimento de um processo de corrosão de polímeros por plasma e sua aplicação em micromáquinas.

• Ano de defesa: 2001
• Autor(a) principal: Arruda, Antonio Carlos Santos de
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
• Palavras-chave em Português: Corrosão; Corrosion
• Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27092024-085829/

Neste trabalho realizamos um estudo sobre o desenvolvimento de um processo de corrosão de polímeros espessos (em torno de 60\'MICROMETROS\') em plasma de oxigênio, objetivando principalmente a obtenção de estruturas com elevadas razões de aspecto visando a sua aplicação e micromáquinas ou em moldes para deposições metálicas. O polímero empregado para a obtenção de camadas espessas em nosso trabalho foi o Poli (metacrilato de metila) (PMMA) 2041 da Evalcite. A otimização dos tratamentos aplicados junto ao polímero tornou possível à aplicação deste material no desenvolvimento de microestruturas além de planarizar a topografia do substrato o que permitiu a sua aplicação em sistemas de multicamadas, em especial neste trabalho os processos de três camadas \"tri-layer\". Numa etapa seguinte desenvolvemos e otimizamos os processos de corrosão por plasma de oxigênio (\'O IND. 2\') do PMMA espesso. Neste estudo fizemos uso dos processos de litografia de três camadas que nos permitiu obter estruturas com razões de aspecto de 4:1 para uma espessura de polímero de 80\'MICROMETROS\'. Para o estudo da corrosão do polímero utilizamos os equipamentos de corrosão por plasma nas configurações \"Reactive Ion etching e Inductive Coupled Plasma\". Com estes sistemas pôde-se determinar as taxas de corrosão e os perfis finais das estruturas onde obteve-se a condição de maior anisotropia. Observou-se uma taxa de corrosão significativamente maior nos processos com plasma de alta densidade (3,5\'MICROMETROS\'/min a 120mTorr com uma densidade de potência de 0,5482 Watts/´cm IND. 2\' junto ao eletrodo e 150 Watts de potência RF na bobina) entretanto os perfis das estruturas obtidos nestas condições foram bem isotrópicos (10:1) se comparados com os perfis obtidos com baixas pressões (5 mTorr, 0,5482 Watts/\'cm POT. 2\' no eletrodo e 100 Watts na bobina) com anisotropia 18:1.