Detalhes bibliográficos
| Ano de defesa: |
2001 |
| Autor(a) principal: |
Salazar, Robinson Oliva |
| Orientador(a): |
Não Informado pela instituição |
| Banca de defesa: |
Não Informado pela instituição |
| Tipo de documento: |
Dissertação
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| Tipo de acesso: |
Acesso aberto |
| Idioma: |
por |
| Instituição de defesa: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
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| Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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| Departamento: |
Não Informado pela instituição
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| País: |
Não Informado pela instituição
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| Palavras-chave em Português: |
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| Link de acesso: |
https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25092024-141317/
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Resumo: |
Nesta dissertação discorremos acerca da difusão de alumínio em filmes finos de carbeto de silício amorfo (a-Si1-xCx: H) quase estequiométricos, crescidos pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) a partir da mistura gasosa silana e metano. Foram estudadas dois tipos de amostras; no primeiro a mistura dos gases não foi diluída em hidrogênio entanto que no segundo tipo este foi diluída. Os resultados da análise das propriedades ópticas, estruturais e composicionais destes filmes submetidos a tratamentos térmicos em diversas temperaturas mostram a influência do alumínio nos dois tipos de filmes promovendo a cristalização. Observa-se também que nas amostras depositadas sem diluição a temperatura de cristalização é mais baixa. Os resultados da caracterização óptica e estrutural mostram também que os mecanismos pelos quais o hidrogênio se incorpora nos dois tipos de filmes é muito diferente. |
