Detalhes bibliográficos
| Ano de defesa: |
1994 |
| Autor(a) principal: |
Silva, Cláudio Morais de Assis |
| Orientador(a): |
Não Informado pela instituição |
| Banca de defesa: |
Não Informado pela instituição |
| Tipo de documento: |
Dissertação
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| Tipo de acesso: |
Acesso aberto |
| Idioma: |
por |
| Instituição de defesa: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
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| Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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| Departamento: |
Não Informado pela instituição
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| País: |
Não Informado pela instituição
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| Palavras-chave em Português: |
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| Link de acesso: |
https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-14082024-103929/
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Resumo: |
Neste trabalho, são estudados as técnicas e métodos para a determinação de um processo fotolitográfico, utilizando-se fotorresiste positivo. Este processo foi desenvolvido em ambiente industrial. São discutidos os problemas de obtenção, exposição, revelação e cozimento da camada de fotorresiste. Trata-se, também, dos problemas relacionados a definição de geometrias na camada de fotorresiste. O processo desenvolvido permitiu definir geometrias de 3\'MICROMETROS\' a 2 \'MICROMETROS\' em camadas de fotorresiste de 1,2 \'MICROMETROS\' a 1,6 \'MICROMETROS\' de espessura. O fotorresiste e o revelador utilizados foram o HPR204 e HPRD419 respectivamente. O estudo estabeleceu as influências das variáveis do processo na determinação da espessura e das dimensões definidas na camada de fotorresiste. Para isso, foram utilizados projetos fatoriais, que consistem em técnicas estatísticas para a elaboração e execução de experimentos. Estes projetos permitem a determinação qualitativa e quantitativa das influências das variáveis do processo nas dimensões das geometrias. Foram obtidas, também, as curvas que caracterizam o processo. |
