Estudo e determinação de um processo fotolitográfico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicação industrial. - Silva, Cláudio Morais de Assis (1994)
Neste trabalho, são estudados as técnicas e métodos para a determinação de um processo fotolitográfico, utilizando-se fotorresiste positivo. Este processo foi desenvolvido em ambiente industrial. São discutidos os problemas de obtenção, exposição, revelação e cozimento da camada de fotorresiste. Trata-se, também, dos problemas relacionados a definição de geometrias na camada de fotorresiste. O processo desenvolvido permitiu definir geometrias de 3\'MICROMETROS\' a 2 \'MICROMETROS\' em camadas de fotorresiste de 1,2 \'MICROMETROS\' a 1,6 \'MICROMETROS\' de espessura. O fotorresiste e o revelador utilizados foram o HPR204 e HPRD419 respectivamente. O estudo estabeleceu as influências das variáveis do processo na determinação da espessura e das dimensões definidas na camada de fotorresiste. Para isso, foram utilizados projetos fatoriais, que consistem em técnicas estatísticas para a elaboração e execução de experimentos. Estes projetos permitem a determinação qualitativa e quantitativa das influências das variáveis do processo nas dimensões das geometrias. Foram obtidas, também, as curvas que caracterizam o processo.