Análise fotoelástica comparativa entre pilares protéticos sólidos e de parafuso passante para implantes com conexão cônica instalados em diferentes profundidades ósseas

• Ano de defesa: 2016
• Autor(a) principal: Provinciatti, Mauricio Martins
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
• Palavras-chave em Português: Abutments; Análise fotoelástica; Conexão cônica; Conical connection; Dental implants; Implantes dentais; Photoelastic analysis; Pilares protéticos; Prosthesis on implants; Prótese sobre implantes
• Link de acesso: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58131/tde-22022016-155915/

As tensões de baixa intensidade contribuem para a remodelação óssea nos implantes osseointegráveis, enquanto as tensões de alta intensidade causam a reabsorção óssea abaixo da interface implante-pilar. A sobrecarga oclusal afeta a fisiologia do tecido ósseo, rompendo com o equilíbrio entre a neoformação e a reabsorção. Como consequência da desarmonia, lacunas surgem em meio a superfície óssea, criando um ambiente favorável à proliferação de patógenos e ao acúmulo de fibras. Com a continuidade da sobrecarga e com a permanência dos microrganismos o suporte ósseo é comprometido, resultando na falha do implante. Em condições normais de carregamento, os implantes com conexão cônica possibilitam uma distribuição homogênea das tensões. O posicionamento da plataforma protética abaixo da crista óssea determina a transferência das tensões para áreas distantes ao osso cortical. O presente estudo utilizou a análise fotoelástica para avaliar a distribuição de tensão em modelos experimentais com implantes com conexão cônica instalados na posição equicristal, 1,5 mm infraósseo e 3,0 mm infraósseo. Foram propostas reabilitações com coroas protéticas unitárias em cerâmica, cimentadas em pilares protéticos sólidos e de parafuso passante com alturas de transmucoso de 1,5 mm, 3,0 mm e 4,5 mm. Os implantes foram posicionados na posição correspondente ao primeiro molar inferior direito. Segundo as situações adotadas, os conjuntos implante/pilar foram avaliados isoladamente, adjacentes a réplicas do segundo pré-molar inferior direito e do segundo molar inferior direito e apenas adjacentes a réplicas do segundo pré-molar inferior direito. A carga aplicada aos modelos fotoelásticos foi de 200 Ncm para todas as situações. Nos modelos com réplicas dentais foi realizado o carregamento oclusal distribuído, nos modelos com implantes isolados o carregamento foi pontual na fossa central e distal das coroas protéticas. Os resultados obtidos revelaram que a indicação de um pilar protético em detrimento a outro se configurou segundo a presença ou não de elemento dental posterior à coroa protética, assim como também por intermédio da profundidade da plataforma do implante na crista óssea remanescente. Em extremidades livres com implantes infraósseo a distribuição de tensão proporcionada pelo pilar de parafuso passante foi superior a do pilar sólido. Com a presença do segundo molar a distribuição da tensão foi mais eficiente com o pilar sólido, independentemente da profundidade da plataforma do implante. Nos modelos fotoelásticos com extremidade livre, o deslocamento da plataforma para uma posição infraóssea determinou menores tensões ao tecido ósseo. Havendo contatos proximais bilaterais a distribuição da tensão foi favorecida quando o implante ocupou a posição infraóssea a 3,0 mm, estando conectado ao pilar de parafuso passante. Entretanto, quando conectado ao pilar sólido o implante equicristal apresentou melhor distribuição de tensão que os implantes infraósseo.