Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating

• Main Author: Ramade, Alice Moser
• Publication Date: 2022
• Format: Master thesis
• Language: por
• Source: Repositório Institucional da Udesc
• dARK ID: ark:/33523/0013000007x8m
• Download full: https://repositorio.udesc.br/handle/UDESC/16227
• topic: Física; Filmes de dióxido de titâneo; Filmes finos; Deposição Física de Vapor; Revestimentos - Processos

O dióxido de titânio (TiO2 ) é um semicondutor com diversas aplicações na ciência e tecnologia devido às suas propriedades ópticas, químicas e elétricas. Neste trabalho, filmes de TiO2 foram depositados sobre substratos de alumínio pela técnica spin coating a partir de nanopartículas P25. As amostras foram caracterizadas por perfilometria mecânica, microscopia eletrônica de varredura (MEV), difração de raios X (DRX), espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS) e técnica das duas pontas, com o objetivo de investigar as propriedades topográficas, morfológicas, estruturais, químicas e elétricas dos filmes obtidos. Testes também foram realizados com a deposição dos filmes em alumínio anodizado com ácido sulfúrico, visando investigar os possíveis efeitos da oxidação do substrato nas propriedades do TiO2 . Os resultados mostram que a oxidação do alumínio ocorreu de forma natural e que a anodização apenas aumentou a espessura da camada de óxido na superfície do substrato, o que influenciou nas propriedades elétricas dos filmes depositados. As demais propriedades do TiO2 foram preservadas. Os filmes possuem adesão ao substrato e não apresentam falhas estruturais. São estequiométricos, policristalinos com fase preferencial anatase e apresentam impedâncias que variam entre 105 e 107 ?, dependendo da composição química da superfície do substrato