Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Ramade, Alice Moser
Data de Publicação: 2022
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da Udesc
dARK ID: ark:/33523/0013000007x8m
Texto Completo: https://repositorio.udesc.br/handle/UDESC/16227
Resumo: O dióxido de titânio (TiO2 ) é um semicondutor com diversas aplicações na ciência e tecnologia devido às suas propriedades ópticas, químicas e elétricas. Neste trabalho, filmes de TiO2 foram depositados sobre substratos de alumínio pela técnica spin coating a partir de nanopartículas P25. As amostras foram caracterizadas por perfilometria mecânica, microscopia eletrônica de varredura (MEV), difração de raios X (DRX), espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS) e técnica das duas pontas, com o objetivo de investigar as propriedades topográficas, morfológicas, estruturais, químicas e elétricas dos filmes obtidos. Testes também foram realizados com a deposição dos filmes em alumínio anodizado com ácido sulfúrico, visando investigar os possíveis efeitos da oxidação do substrato nas propriedades do TiO2 . Os resultados mostram que a oxidação do alumínio ocorreu de forma natural e que a anodização apenas aumentou a espessura da camada de óxido na superfície do substrato, o que influenciou nas propriedades elétricas dos filmes depositados. As demais propriedades do TiO2 foram preservadas. Os filmes possuem adesão ao substrato e não apresentam falhas estruturais. São estequiométricos, policristalinos com fase preferencial anatase e apresentam impedâncias que variam entre 105 e 107 ?, dependendo da composição química da superfície do substrato
id UDESC-2_caf0240d0ca6cb054df241ee330a9f6c
oai_identifier_str oai:repositorio.udesc.br:UDESC/16227
network_acronym_str UDESC-2
network_name_str Repositório Institucional da Udesc
repository_id_str 6391
spelling Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coatingFísicaFilmes de dióxido de titâneoFilmes finosDeposição Física de VaporRevestimentos - ProcessosO dióxido de titânio (TiO2 ) é um semicondutor com diversas aplicações na ciência e tecnologia devido às suas propriedades ópticas, químicas e elétricas. Neste trabalho, filmes de TiO2 foram depositados sobre substratos de alumínio pela técnica spin coating a partir de nanopartículas P25. As amostras foram caracterizadas por perfilometria mecânica, microscopia eletrônica de varredura (MEV), difração de raios X (DRX), espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS) e técnica das duas pontas, com o objetivo de investigar as propriedades topográficas, morfológicas, estruturais, químicas e elétricas dos filmes obtidos. Testes também foram realizados com a deposição dos filmes em alumínio anodizado com ácido sulfúrico, visando investigar os possíveis efeitos da oxidação do substrato nas propriedades do TiO2 . Os resultados mostram que a oxidação do alumínio ocorreu de forma natural e que a anodização apenas aumentou a espessura da camada de óxido na superfície do substrato, o que influenciou nas propriedades elétricas dos filmes depositados. As demais propriedades do TiO2 foram preservadas. Os filmes possuem adesão ao substrato e não apresentam falhas estruturais. São estequiométricos, policristalinos com fase preferencial anatase e apresentam impedâncias que variam entre 105 e 107 ?, dependendo da composição química da superfície do substratoDuarte, Diego AlexandreRamade, Alice Moser2025-01-24T19:19:39Z2022info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesis1 recurso online ( 61 p.)application/pdfRAMADE, Alice Moser. <b>Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating</b>. 2025. Dissertação (Programa de Pós-Graduação em Física) - Udesc, 2022. Disponível em: https://repositorio.udesc.br/handle/UDESC/16227. Acesso em: insira aqui a data de acesso ao material. Ex: 18 fev. 2025.https://repositorio.udesc.br/handle/UDESC/16227ark:/33523/0013000007x8mAttribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 Brazilhttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/br/info:eu-repo/semantics/openAccessporreponame:Repositório Institucional da Udescinstname:Universidade do Estado de Santa Catarina (UDESC)instacron:UDESC2025-01-25T06:13:51Zoai:repositorio.udesc.br:UDESC/16227Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttps://pergamumweb.udesc.br/biblioteca/index.phpPRIhttps://repositorio-api.udesc.br/server/oai/requestri@udesc.bropendoar:63912025-01-25T06:13:51Repositório Institucional da Udesc - Universidade do Estado de Santa Catarina (UDESC)false
dc.title.none.fl_str_mv Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating
title Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating
spellingShingle Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating
Ramade, Alice Moser
Física
Filmes de dióxido de titâneo
Filmes finos
Deposição Física de Vapor
Revestimentos - Processos
title_short Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating
title_full Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating
title_fullStr Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating
title_full_unstemmed Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating
title_sort Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating
author Ramade, Alice Moser
author_facet Ramade, Alice Moser
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Duarte, Diego Alexandre
dc.contributor.author.fl_str_mv Ramade, Alice Moser
dc.subject.por.fl_str_mv Física
Filmes de dióxido de titâneo
Filmes finos
Deposição Física de Vapor
Revestimentos - Processos
topic Física
Filmes de dióxido de titâneo
Filmes finos
Deposição Física de Vapor
Revestimentos - Processos
description O dióxido de titânio (TiO2 ) é um semicondutor com diversas aplicações na ciência e tecnologia devido às suas propriedades ópticas, químicas e elétricas. Neste trabalho, filmes de TiO2 foram depositados sobre substratos de alumínio pela técnica spin coating a partir de nanopartículas P25. As amostras foram caracterizadas por perfilometria mecânica, microscopia eletrônica de varredura (MEV), difração de raios X (DRX), espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS) e técnica das duas pontas, com o objetivo de investigar as propriedades topográficas, morfológicas, estruturais, químicas e elétricas dos filmes obtidos. Testes também foram realizados com a deposição dos filmes em alumínio anodizado com ácido sulfúrico, visando investigar os possíveis efeitos da oxidação do substrato nas propriedades do TiO2 . Os resultados mostram que a oxidação do alumínio ocorreu de forma natural e que a anodização apenas aumentou a espessura da camada de óxido na superfície do substrato, o que influenciou nas propriedades elétricas dos filmes depositados. As demais propriedades do TiO2 foram preservadas. Os filmes possuem adesão ao substrato e não apresentam falhas estruturais. São estequiométricos, policristalinos com fase preferencial anatase e apresentam impedâncias que variam entre 105 e 107 ?, dependendo da composição química da superfície do substrato
publishDate 2022
dc.date.none.fl_str_mv 2022
2025-01-24T19:19:39Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv RAMADE, Alice Moser. <b>Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating</b>. 2025. Dissertação (Programa de Pós-Graduação em Física) - Udesc, 2022. Disponível em: https://repositorio.udesc.br/handle/UDESC/16227. Acesso em: insira aqui a data de acesso ao material. Ex: 18 fev. 2025.
https://repositorio.udesc.br/handle/UDESC/16227
dc.identifier.dark.fl_str_mv ark:/33523/0013000007x8m
identifier_str_mv RAMADE, Alice Moser. <b>Deposição de filmes finos de dióxido de titânio em substrato de alumínio pela técnica spin coating</b>. 2025. Dissertação (Programa de Pós-Graduação em Física) - Udesc, 2022. Disponível em: https://repositorio.udesc.br/handle/UDESC/16227. Acesso em: insira aqui a data de acesso ao material. Ex: 18 fev. 2025.
ark:/33523/0013000007x8m
url https://repositorio.udesc.br/handle/UDESC/16227
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 Brazil
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/br/
info:eu-repo/semantics/openAccess
rights_invalid_str_mv Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 Brazil
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/br/
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv 1 recurso online ( 61 p.)
application/pdf
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional da Udesc
instname:Universidade do Estado de Santa Catarina (UDESC)
instacron:UDESC
instname_str Universidade do Estado de Santa Catarina (UDESC)
instacron_str UDESC
institution UDESC
reponame_str Repositório Institucional da Udesc
collection Repositório Institucional da Udesc
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da Udesc - Universidade do Estado de Santa Catarina (UDESC)
repository.mail.fl_str_mv ri@udesc.br
_version_ 1842258099873775616

Registros relacionados