Improved reliability and stability of IGZO memristors performance for artificial intelligent (AI) applications

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Mingates, Tomás Emanuel Neca Adão Miranda
Data de Publicação: 2023
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: eng
Título da fonte: Repositórios Científicos de Acesso Aberto de Portugal (RCAAP)
Texto Completo: http://hdl.handle.net/10362/162509
Resumo: A rápida expansão das aplicações de internet-das-coisas (IoT) e inteligência artificial exige um processamento eficiente de dados, impulsionando uma transição de arquiteturas de computação convencionais para superar limitações de tempo e energia. À medida que a miniaturização enfrenta limitações físicas, paradigmas alternativos, como a computação in-memory, que imita o comportamento sinapse-neurónio semelhante ao cérebro, têm emergido. Este estudo explora o aprimoramento do desempenho elétrico de dispositivos de comutação resistiva baseados em óxido de índio-gálio-zinco (IGZO), produzidos por métodos de deposição física de vapor a temperatura ambiente, com foco na retenção, atribuindo também grande relevância à sua razão de condutância, confiabilidade e resposta a esquemas de pulsos. Vários parâmetros foram investigados, incluindo proporções de composição da camada ativa, tratamentos de oxigénio no contacto inferior e diferentes materiais de elétrodo, molibdénio e alumínio. As descobertas-chave indicam que o tratamento com oxigénio e a composição alvo de IGZO influenciam significativamente as características do memristor, nomeadamente nas razões de condutância e retificação, as quais foram melhoradas com o uso de um tratamento alternativo de plasma de oxigénio a uma pressão mais elevada. O recozimento como tratamento com oxigénio resultou num contacto quase óhmico sem comutação resistiva. As tentativas de resolver a baixa retenção usando alumínio como um contacto de baixo alternativo foram frutíferas; no entanto, levaram à perda do comportamento analógico confiável verificado ao usar molibdénio. Os resultados alcançados estão em linha com o estado-da-arte, uma vez que não foram realizadas melhorias inovadoras. No entanto, é provável que este tratamento alternativo de plasma seja implementado daqui em diante.
id RCAP_39903e856aa66abcb07d4a6eb81eaa38
oai_identifier_str oai:run.unl.pt:10362/162509
network_acronym_str RCAP
network_name_str Repositórios Científicos de Acesso Aberto de Portugal (RCAAP)
repository_id_str https://opendoar.ac.uk/repository/7160
spelling Improved reliability and stability of IGZO memristors performance for artificial intelligent (AI) applicationsamorphous oxide semiconductor (AOS)IGZOneuromophic computingparylene-Cresistive switching devicesDomínio/Área Científica::Engenharia e Tecnologia::NanotecnologiaA rápida expansão das aplicações de internet-das-coisas (IoT) e inteligência artificial exige um processamento eficiente de dados, impulsionando uma transição de arquiteturas de computação convencionais para superar limitações de tempo e energia. À medida que a miniaturização enfrenta limitações físicas, paradigmas alternativos, como a computação in-memory, que imita o comportamento sinapse-neurónio semelhante ao cérebro, têm emergido. Este estudo explora o aprimoramento do desempenho elétrico de dispositivos de comutação resistiva baseados em óxido de índio-gálio-zinco (IGZO), produzidos por métodos de deposição física de vapor a temperatura ambiente, com foco na retenção, atribuindo também grande relevância à sua razão de condutância, confiabilidade e resposta a esquemas de pulsos. Vários parâmetros foram investigados, incluindo proporções de composição da camada ativa, tratamentos de oxigénio no contacto inferior e diferentes materiais de elétrodo, molibdénio e alumínio. As descobertas-chave indicam que o tratamento com oxigénio e a composição alvo de IGZO influenciam significativamente as características do memristor, nomeadamente nas razões de condutância e retificação, as quais foram melhoradas com o uso de um tratamento alternativo de plasma de oxigénio a uma pressão mais elevada. O recozimento como tratamento com oxigénio resultou num contacto quase óhmico sem comutação resistiva. As tentativas de resolver a baixa retenção usando alumínio como um contacto de baixo alternativo foram frutíferas; no entanto, levaram à perda do comportamento analógico confiável verificado ao usar molibdénio. Os resultados alcançados estão em linha com o estado-da-arte, uma vez que não foram realizadas melhorias inovadoras. No entanto, é provável que este tratamento alternativo de plasma seja implementado daqui em diante.The rapid expansion of internet-of-things (IoT) and artificial intelligence (AI) applications demands efficient data processing, prompting a shift from conventional computing architectures to overcome time and energy constraints. As miniaturization faces physical limitations, alternative paradigms like in-memory computing, mimicking brain-like synapse-neuron behavior, have emerged. This study explores enhancing the electrical performance of resistive switching (RS) devices based on indium-gallium- zinc-oxide (IGZO), produced by physical vapor deposition methods at room temperature, with a focus on retention, while also giving great relevance to their conductance ratio, reliability, and response to pulse schemes. Various parameters were investigated, including active layer composition ratios, oxygen treatments on the bottom contact, and different electrode materials, molybdenum and aluminum. Key findings indicate that oxygen treatment and the IGZO target composition significantly influence memristor characteristics, particularly conductance and rectification ratios, which were improved with the use of an alternative oxygen plasma treatment at higher pressure. Annealing as a oxygen treatment resulted in an ohmic-like contact without resistive switching. Attempts to address poor retention using aluminum as an alternative bottom contact (BC) were fruitful; however, they led to the loss of reliable analog behavior verified when using molybdenum. The results achieved are in line with the state-of-the-art, as no groundbreaking improvements were accomplished. Nonetheless, this alternative plasma treatment will most likely be implemented onwards.Kiazadeh, AsalBarquinha, PedroPereira, Maria EliasRUNMingates, Tomás Emanuel Neca Adão Miranda2023-12-122024-09-30T00:00:00Z2023-12-12T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttp://hdl.handle.net/10362/162509enginfo:eu-repo/semantics/embargoedAccessreponame:Repositórios Científicos de Acesso Aberto de Portugal (RCAAP)instname:FCCN, serviços digitais da FCT – Fundação para a Ciência e a Tecnologiainstacron:RCAAP2024-05-22T18:17:28Zoai:run.unl.pt:10362/162509Portal AgregadorONGhttps://www.rcaap.pt/oai/openaireinfo@rcaap.ptopendoar:https://opendoar.ac.uk/repository/71602025-05-28T17:48:01.016539Repositórios Científicos de Acesso Aberto de Portugal (RCAAP) - FCCN, serviços digitais da FCT – Fundação para a Ciência e a Tecnologiafalse
dc.title.none.fl_str_mv Improved reliability and stability of IGZO memristors performance for artificial intelligent (AI) applications
title Improved reliability and stability of IGZO memristors performance for artificial intelligent (AI) applications
spellingShingle Improved reliability and stability of IGZO memristors performance for artificial intelligent (AI) applications
Mingates, Tomás Emanuel Neca Adão Miranda
amorphous oxide semiconductor (AOS)
IGZO
neuromophic computing
parylene-C
resistive switching devices
Domínio/Área Científica::Engenharia e Tecnologia::Nanotecnologia
title_short Improved reliability and stability of IGZO memristors performance for artificial intelligent (AI) applications
title_full Improved reliability and stability of IGZO memristors performance for artificial intelligent (AI) applications
title_fullStr Improved reliability and stability of IGZO memristors performance for artificial intelligent (AI) applications
title_full_unstemmed Improved reliability and stability of IGZO memristors performance for artificial intelligent (AI) applications
title_sort Improved reliability and stability of IGZO memristors performance for artificial intelligent (AI) applications
author Mingates, Tomás Emanuel Neca Adão Miranda
author_facet Mingates, Tomás Emanuel Neca Adão Miranda
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Kiazadeh, Asal
Barquinha, Pedro
Pereira, Maria Elias
RUN
dc.contributor.author.fl_str_mv Mingates, Tomás Emanuel Neca Adão Miranda
dc.subject.por.fl_str_mv amorphous oxide semiconductor (AOS)
IGZO
neuromophic computing
parylene-C
resistive switching devices
Domínio/Área Científica::Engenharia e Tecnologia::Nanotecnologia
topic amorphous oxide semiconductor (AOS)
IGZO
neuromophic computing
parylene-C
resistive switching devices
Domínio/Área Científica::Engenharia e Tecnologia::Nanotecnologia
description A rápida expansão das aplicações de internet-das-coisas (IoT) e inteligência artificial exige um processamento eficiente de dados, impulsionando uma transição de arquiteturas de computação convencionais para superar limitações de tempo e energia. À medida que a miniaturização enfrenta limitações físicas, paradigmas alternativos, como a computação in-memory, que imita o comportamento sinapse-neurónio semelhante ao cérebro, têm emergido. Este estudo explora o aprimoramento do desempenho elétrico de dispositivos de comutação resistiva baseados em óxido de índio-gálio-zinco (IGZO), produzidos por métodos de deposição física de vapor a temperatura ambiente, com foco na retenção, atribuindo também grande relevância à sua razão de condutância, confiabilidade e resposta a esquemas de pulsos. Vários parâmetros foram investigados, incluindo proporções de composição da camada ativa, tratamentos de oxigénio no contacto inferior e diferentes materiais de elétrodo, molibdénio e alumínio. As descobertas-chave indicam que o tratamento com oxigénio e a composição alvo de IGZO influenciam significativamente as características do memristor, nomeadamente nas razões de condutância e retificação, as quais foram melhoradas com o uso de um tratamento alternativo de plasma de oxigénio a uma pressão mais elevada. O recozimento como tratamento com oxigénio resultou num contacto quase óhmico sem comutação resistiva. As tentativas de resolver a baixa retenção usando alumínio como um contacto de baixo alternativo foram frutíferas; no entanto, levaram à perda do comportamento analógico confiável verificado ao usar molibdénio. Os resultados alcançados estão em linha com o estado-da-arte, uma vez que não foram realizadas melhorias inovadoras. No entanto, é provável que este tratamento alternativo de plasma seja implementado daqui em diante.
publishDate 2023
dc.date.none.fl_str_mv 2023-12-12
2023-12-12T00:00:00Z
2024-09-30T00:00:00Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://hdl.handle.net/10362/162509
url http://hdl.handle.net/10362/162509
dc.language.iso.fl_str_mv eng
language eng
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/embargoedAccess
eu_rights_str_mv embargoedAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositórios Científicos de Acesso Aberto de Portugal (RCAAP)
instname:FCCN, serviços digitais da FCT – Fundação para a Ciência e a Tecnologia
instacron:RCAAP
instname_str FCCN, serviços digitais da FCT – Fundação para a Ciência e a Tecnologia
instacron_str RCAAP
institution RCAAP
reponame_str Repositórios Científicos de Acesso Aberto de Portugal (RCAAP)
collection Repositórios Científicos de Acesso Aberto de Portugal (RCAAP)
repository.name.fl_str_mv Repositórios Científicos de Acesso Aberto de Portugal (RCAAP) - FCCN, serviços digitais da FCT – Fundação para a Ciência e a Tecnologia
repository.mail.fl_str_mv info@rcaap.pt
_version_ 1833596971986714624