Estudo da pureza de filmes depositados por \'vacuum ARC plasma deposition system\'.

• Ano de defesa: 2002
• Autor(a) principal: Martins, Deilton Reis
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
• Palavras-chave em Português: Filmes finos; Plasma (Microelectronics); Plasma (Microeletrônica); Thin Films
• Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12092024-143901/

Neste trabalho obtemos filmes finos a partir de plasma gerado por corrente elétrica. Este processo, conhecido por arco catódico filtrado, é usado em um grande número de aplicações tecnológicas, seja para recobrimento ou modificação de superfícies. Apresentamos, além da descrição de características básicas do método, detalhes da construção do equipamento tal como o circuito elétrico para geração do arco catódico. Após a construção do equipamento, foi dado inicio a um estudo de contaminação do filme em função de outros elementos anteriormente utilizados na câmara de deposição, isto é, um estudo da contaminação por efeito de memória. Ainda como parte do estudo do efeito de memória, é abordada a questão da persistência desse efeito ao longo do tempo de deposição. Resultados de contaminação de oxigênio em um filme de alumínio são apresentados no final do trabalho.