Detalhes bibliográficos
| Ano de defesa: |
2000 |
| Autor(a) principal: |
Bussolini, Miguel |
| Orientador(a): |
Não Informado pela instituição |
| Banca de defesa: |
Não Informado pela instituição |
| Tipo de documento: |
Tese
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| Tipo de acesso: |
Acesso aberto |
| Idioma: |
por |
| Instituição de defesa: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
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| Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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| Departamento: |
Não Informado pela instituição
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| País: |
Não Informado pela instituição
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| Palavras-chave em Português: |
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| Link de acesso: |
https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3143/tde-21102024-101831/
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Resumo: |
Embora as tochas a plasma venham sendo usadas amplamente há várias décadas em uma variedade de aplicações em processos industriais até agora não foi desenvolvido um método simples de projeto para as tochas de arco longo e estabilizados porparedes frias. Neste trabalho é apresentado um modelo elétrico equivalente para este tipo de tocha, baseado em parâmetros concentrados que representam as principais variáveis que atuam no arco elétrico e, a partir daí, é proposto um método deprojeto para uso em engenharia. Seguindo o método proposto, um projeto de tocha de plasma de pequena capacidade foi desenvolvido e um protótipo foi construído. Testes realizados neste protótipo puderam avaliar seu comportamento e validar omodelo e o método de projeto propostos, pois os resultados obtidos puderam ser previstos com boa aproximação. Portanto, pelo menos para tochas de pequena capacidade, o modelo e o método de projeto apresentados provaram ser úteis para odesenvolvimento de tochas a plasma. |
