Estudo da viabilidade de endurecimento de aços utilizando uma tocha de plasma como fonte energética.
Ano de defesa: | 2001 |
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Autor(a) principal: | |
Orientador(a): | |
Banca de defesa: | |
Tipo de documento: | Dissertação |
Tipo de acesso: | Acesso aberto |
Idioma: | por |
Instituição de defesa: |
Universidade Federal de Campina Grande
Brasil Centro de Ciências e Tecnologia - CCT PÓS-GRADUAÇÃO EM ENGENHARIA MECÂNICA UFCG |
Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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Departamento: |
Não Informado pela instituição
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País: |
Não Informado pela instituição
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Palavras-chave em Português: | |
Link de acesso: | http://dspace.sti.ufcg.edu.br:8080/jspui/handle/riufcg/8434 |
Resumo: | 0 presente trabalho apresenta fundamentalmente o estudo da possibilidade e viabilidade de endurecimento superficial de aços empregando como fonte energética uma tocha de plasma pulsado. O trabalho ora desenvolvido se divide em duas etapas: i) Levantamento dos perfis térmicos de aquecimento e resfriamento traçados a partir dos dados de tempo e temperatura, objetivando quantificar a taxa de aquecimento e resfriamento, bem como a temperatura em que as amostras foram submetidas. ii) Análise qualitativa dos efeitos da ação de uma tocha de plasma sobre as microestruturas dos aços SAE 420 e SAE 4340. Na primeira etapa verificou-se que para uma mesma energia da tocha ha modificações do gradiente térmico quando se varia o tempo ligado, i.e., a razão cíclica (tp/T). As temperaturas máximas aumentaram com o fator energia, bem como as taxas de resfriamento. Na segunda etapa foi constado que apos o aquecimento e subsequente resfriamento os testes de microdureza indicaram aumento significativo na dureza superficial. A condição de trabalho originou durezas mais significativas que foi (1=18 A; Ib=2 A; f=10 kHz e tempos que variaram de 5 a 25 segundos). O equipamento de plasma usado em nosso laboratório (LabPlasma - Laboratório de Processamento de Materiais por Plasma/UFRN) possui uma fonte de tensão pulsada com grande versatilidade, através de controles eletrônico/digital, podemos controlar vários parâmetros do plasma: corrente, frequência, tempo ligado (ton), tempo desligado (toff), entre outros. |