Calibração de padrões metrológicos utilizando visão computacional.

• Ano de defesa: 1999
• Autor(a) principal: Martins, Flavius Portella Ribas
• Tipo de documento: Tese
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
• Palavras-chave em Português: Artificial intelligence; Computer vision; Inteligência artificial; Metrologia; Metrology; Visão computacional
• Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3132/tde-16072024-113634/

Em processos metrológicos, tradicionalmente se ignora o efeito das escalas nominal e ordinal sobre a qualidade final das medidas. Tais escalas, por estarem ligadas respectivamente a reconhecimento e classificação de padrões, atividades desenvolvidas inconscientemente pelo operador humano, não despertam qualquer atenção no processo de medição, onde todos os esforços se concentram sobre a escala racional, descritora das medidas numéricas. Contudo, durante a automação de ensaios de calibração de microescalas de 1mm e microtexturas de peneiras de medição, a modelagem do conhecimento visual humano do operador e, portanto, dos processos de reconhecimento e classificação de padrões, mostrou-se crucial. Após se construir sete instrumentos metrológicos baseados em diferentes paradigmas de visão computacional, realizaram-se experimentos que, além de demonstrarem de forma inequívoca a influência das escalas nominal e ordinal sobre a qualidade das medidas finais, permitiram identificar, para os dois ensaios considerados, os modelos de medição e respectivos parâmetros que produziam medidas com maior repetibilidade e exatidão. Os dois modelos identificados, foram, então aplicados, à medição de microescalas e microtexturas de peneiras, obtendo -se, relativamente aos ensaios convencionais, diminuição da incerteza de até 5 vezes (0,2\'MICROMETROS\' para 0,04\'MICROMETROS\') no primeiro caso e de até 20 vezes (2\'MICROMETROS\' para 0,1\'MICROMETROS\') no segundo. Já o ganho em eficiência foi ainda significativo: os instrumentos desenvolvidos para calibrar microescalas e microtexturas mostraram ser capazes de processar a mesma quantidade de informação, respectivamente, em intervalos de tempo 30 e 100 vezes inferiores ao requerido pelos processos metrológicos tradicionais.