Profundidade de polimerização de cimentos resinosos utilizados na cimentação de pinos translúcidos e sua influência sobre a resistência adesiva antes e após ciclagem mecânica

• Ano de defesa: 2008
• Autor(a) principal: Galhano, Graziela Ávila Prado [UNESP]
• Tipo de documento: Tese
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Estadual Paulista (Unesp)
• Palavras-chave em Português: Cimentos de resina; Materiais dentários; Pinos dentários; Degree of conversion
• Link de acesso: http://hdl.handle.net/11449/105541

Este estudo teve com objetivo analisar a capacidade de um pino translúcido transmitir luz para o interior do canal radicular, bem como analisar o efeito desta polimerização na resistência mecânica e adesiva do conjunto pino, cimento, dente. Além disso, foi avaliada a resistência adesiva de diferentes tipos de cimentos resinosos. Foram utilizados 70 dentes humanos unirradiculares. O canal foi preparado com as fresas n°3 dos sistemas de pinos Light-Post (Bisco Inc, EUA). As raízes foram pintadas com esmalte preto para evitar a passagem de luz pela lateral do dente. Todos os dentes foram tratados com o sistema adesivo All Bond 2 (Bisco) e cimentados com três tipos de cimento formando os seguintes grupos: G1) Cimento Dual Duolink (Bisco) não fotopolimerizado, G2) Cimento Dual duolink fotopolimerizado, G3) Cimento Químico (C&B - Bisco) e G4) cimento fotopolimerizável (Illusion, Bisco). Cada grupo foi subdividido segundo a execução ou não de ciclagem mecânica. Em seguida, os dentes foram cortados perpendicular ao longo eixo do dente obtendo espécimes de 2mm de espessura. Cada secção era correspondente a uma região do dente (cervical, média, apical), possibilitando observar a polimerização do cimento nas diferentes profundidades da raiz realizando a analise Raman em três dentes de cada grupo. Em seguida, foi realizado o teste de push-out.Como resultado foi observado menor grau de conversão em direção apical para os cimentos foto-ativados, enquanto o cimento dual sem foto-ativaçao apresentou maiores valores. Para a resistência adesiva foi observada semelhança estatística inicial entre o cimento Duolink foto-ativado ou não, sendo que q ciclagem mecânica diminui consideravelmente a RA do Duolink quimicamente polimerizado. O cimento fotopolimerizável apresentou valores muito baixos de resistência adesiva e o cimento químico C&B apresentou os maiores valores antes e apos ciclagem mecânica.