Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: |
2008 |
Autor(a) principal: |
Galhano, Graziela Ávila Prado [UNESP] |
Orientador(a): |
Não Informado pela instituição |
Banca de defesa: |
Não Informado pela instituição |
Tipo de documento: |
Tese
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Tipo de acesso: |
Acesso aberto |
Idioma: |
por |
Instituição de defesa: |
Universidade Estadual Paulista (Unesp)
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Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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Departamento: |
Não Informado pela instituição
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País: |
Não Informado pela instituição
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Palavras-chave em Português: |
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Link de acesso: |
http://hdl.handle.net/11449/105541
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Resumo: |
Este estudo teve com objetivo analisar a capacidade de um pino translúcido transmitir luz para o interior do canal radicular, bem como analisar o efeito desta polimerização na resistência mecânica e adesiva do conjunto pino, cimento, dente. Além disso, foi avaliada a resistência adesiva de diferentes tipos de cimentos resinosos. Foram utilizados 70 dentes humanos unirradiculares. O canal foi preparado com as fresas n°3 dos sistemas de pinos Light-Post (Bisco Inc, EUA). As raízes foram pintadas com esmalte preto para evitar a passagem de luz pela lateral do dente. Todos os dentes foram tratados com o sistema adesivo All Bond 2 (Bisco) e cimentados com três tipos de cimento formando os seguintes grupos: G1) Cimento Dual Duolink (Bisco) não fotopolimerizado, G2) Cimento Dual duolink fotopolimerizado, G3) Cimento Químico (C&B - Bisco) e G4) cimento fotopolimerizável (Illusion, Bisco). Cada grupo foi subdividido segundo a execução ou não de ciclagem mecânica. Em seguida, os dentes foram cortados perpendicular ao longo eixo do dente obtendo espécimes de 2mm de espessura. Cada secção era correspondente a uma região do dente (cervical, média, apical), possibilitando observar a polimerização do cimento nas diferentes profundidades da raiz realizando a analise Raman em três dentes de cada grupo. Em seguida, foi realizado o teste de push-out.Como resultado foi observado menor grau de conversão em direção apical para os cimentos foto-ativados, enquanto o cimento dual sem foto-ativaçao apresentou maiores valores. Para a resistência adesiva foi observada semelhança estatística inicial entre o cimento Duolink foto-ativado ou não, sendo que q ciclagem mecânica diminui consideravelmente a RA do Duolink quimicamente polimerizado. O cimento fotopolimerizável apresentou valores muito baixos de resistência adesiva e o cimento químico C&B apresentou os maiores valores antes e apos ciclagem mecânica. |