Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 1988
Autor(a) principal: Tatsch, Peter Jürgen, 1949-
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Tese
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: [s.n.]
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Link de acesso: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1579107
Resumo: Orientador : Edmundo da Silva Braga