O silício amorfo hidrogenado depositado por ECR-CVD para a definição de nanofios semicondutores : Hydrogenated amorphous silicon deposited by ECR-CVD for the definition of semiconductors nanowires

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa:	2017
Autor(a) principal:	Rosa, Andressa Macedo, 1988-
Orientador(a):	Não Informado pela instituição
Banca de defesa:	Não Informado pela instituição
Tipo de documento:	Tese
Tipo de acesso:	Acesso aberto
Idioma:	por
Instituição de defesa:	[s.n.]
Programa de Pós-Graduação:	Não Informado pela instituição
Departamento:	Não Informado pela instituição
País:	Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:	Nanofios semicondutores Silício Litografia Feixes de íons focalizados Semiconductors nanowires Silicon Lithograph Focused ion beams
Link de acesso:	https://hdl.handle.net/20.500.12733/1632833
Resumo:	Orientador: José Alexandre Diniz

Registros relacionados