Crescimento endotaxial de nanoplacas de NiSi2 e CoSi2 em Si

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2024
Autor(a) principal: Schuitek, Thiago Paulino
Orientador(a): Kellermann, Guinther, 1969-
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Não Informado pela instituição
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Link de acesso: https://hdl.handle.net/1884/88403
Resumo: Orientador: Guinther Kellermann