Detalhes bibliográficos
| Ano de defesa: |
2015 |
| Autor(a) principal: |
Westphal, Talita Marth |
| Orientador(a): |
Avellaneda, César Antonio Oropesa |
| Banca de defesa: |
Não Informado pela instituição |
| Tipo de documento: |
Dissertação
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| Tipo de acesso: |
Acesso aberto |
| Idioma: |
por |
| Instituição de defesa: |
Universidade Federal de Pelotas
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| Programa de Pós-Graduação: |
Programa de Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais
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| Departamento: |
Centro de Desenvolvimento Tecnológico
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| País: |
Brasil
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| Palavras-chave em Português: |
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| Área do conhecimento CNPq: |
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| Link de acesso: |
http://guaiaca.ufpel.edu.br/handle/prefix/8763
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Resumo: |
A presente dissertação propõe estudar filmes finos de pentóxido de vanádio (V2O5) dopados com pentóxido de nióbio (V2O5:Nb2O5), preparados pelo processo sol-gel. Os sóis foram obtidos utilizando etóxido de nióbio (Nb(OCH2CH3)5) e alcóxido de vanádio (OV(OCH(CH3)2)3 – oxitriisopropóxido de vanádio) como precursores, isopropanol como solvente e ácido acético glacial como catalisador. Os filmes finos foram depositados pela técnica de dip coating sobre um substrato condutor eletrônico (FTO). A partir disso, foi feito um estudo sistemático para a obtenção de filmes finos com as propriedades eletroquímicas desejadas. Os filmes finos depositados foram submetidos ao tratamento térmico de 350°C durante 30 minutos em atmosfera de ar. Os filmes finos de V2O5 e V2O5:Nb2O5 foram estudados através de diferentes técnicas eletroquímicas, tais como voltametria cíclica (VC), cronoamperometria (CA), cronocoulometria (CC), espectroscopia de impedância eletroquímica (EIE) e espectroscopia no UV-Vis. Para estudar a morfologia dos filmes, foram realizadas medidas de microscopia eletrônica de varredura (MEV) e microscopia de força atômica (MFA). O objetivo da dissertação foi preparar e caracterizar filmes finos com propriedades eletrocrômicas e a sua possibilidade de utilizar esses filmes como contra-eletrodo num dispositivo eletrocrômico. |
