Filmes Finos de V2O5 dopados com Nb2O5. - Westphal, Talita Marth (2015)
A presente dissertação propõe estudar filmes finos de pentóxido de vanádio (V2O5) dopados com pentóxido de nióbio (V2O5:Nb2O5), preparados pelo processo sol-gel. Os sóis foram obtidos utilizando etóxido de nióbio (Nb(OCH2CH3)5) e alcóxido de vanádio (OV(OCH(CH3)2)3 – oxitriisopropóxido de vanádio) como precursores, isopropanol como solvente e ácido acético glacial como catalisador. Os filmes finos foram depositados pela técnica de dip coating sobre um substrato condutor eletrônico (FTO). A partir disso, foi feito um estudo sistemático para a obtenção de filmes finos com as propriedades eletroquímicas desejadas. Os filmes finos depositados foram submetidos ao tratamento térmico de 350°C durante 30 minutos em atmosfera de ar. Os filmes finos de V2O5 e V2O5:Nb2O5 foram estudados através de diferentes técnicas eletroquímicas, tais como voltametria cíclica (VC), cronoamperometria (CA), cronocoulometria (CC), espectroscopia de impedância eletroquímica (EIE) e espectroscopia no UV-Vis. Para estudar a morfologia dos filmes, foram realizadas medidas de microscopia eletrônica de varredura (MEV) e microscopia de força atômica (MFA). O objetivo da dissertação foi preparar e caracterizar filmes finos com propriedades eletrocrômicas e a sua possibilidade de utilizar esses filmes como contra-eletrodo num dispositivo eletrocrômico.