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Deposição e caracterização de filmes de \'SI\'\'O IND.2\' crescidos pela técnica de pecvd a baixa temperatura

Publicado em 1996
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Dissertação

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Estudo e otimização das propriedades estruturais, ópticas e elétricas de películas de SiOxNy depositadas por PECVD para aplicações em dispositivos MOS, microestruturas e guias de o...

Publicado em 2000
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Tese