Fabricação de elementos ópticos difrativos empregando processos de microusinagem.

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2002
Autor(a) principal: Cirino, Giuseppe Antonio
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Tese
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Link de acesso: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-14112024-143618/
Resumo: Neste trabalho foram fabricados vários tipos de elementos ópticos difrativos (EODs) a partir de etapas de processos de fabricação de microssistemas, tais como fotolitografia e corrosão por plasma. Para tanto, foram desenvolvidas etapas de processos de fabricação, e foi investigado o emprego de novos materiais, tal como filme fino de carbono amorfo hidrogenado (a:C-H). Dentre os dispositivos fabricados, estão EODs com modulação de fase, de amplitude e de ambos (modulação complexa), operando por transmissão ou por reflexão. Materiais como o silício monocristalino, o dióxido de silício (silica fundida), filme fino a:C-H, polímeros tipo Novolak e polimetilmetacriato (PMMA) foram empregados. A fabricação do EOD com modulação complexa mostrou o sucesso do projeto e implementação de um EOD ainda não reportado na literatura. Este elemento emprega filme a:C-H para modulação da fase e um filme refletivo de alumínio para a modulação da amplitude de uma frente de onda, incidente no dispositivo. Com esta abordagem pode-se obter imagens mais ricas em detalhes, com elevada eficiência e baixo nível de ruído.