Detalhes bibliográficos
| Ano de defesa: |
2006 |
| Autor(a) principal: |
Silva, Douglas Kais da |
| Orientador(a): |
Não Informado pela instituição |
| Banca de defesa: |
Não Informado pela instituição |
| Tipo de documento: |
Dissertação
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| Tipo de acesso: |
Acesso aberto |
| Idioma: |
por |
| Instituição de defesa: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
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| Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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| Departamento: |
Não Informado pela instituição
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| País: |
Não Informado pela instituição
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| Palavras-chave em Português: |
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| Link de acesso: |
http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/46/46132/tde-24042007-164032/
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Resumo: |
Foi estudado o comportamento eletroquímico de interfases Cu/H2SO4 0,5 mol L-1 na ausência e presença de compostos triazólicos - benzotriazol (BTAH) e tolitriazol (TTAH) e de surfactantes: dodecilsulfato de sódio (SDS aniônico) e cloreto de dodecilamônio (DAC catiônico) a 25ºC, empregando eletrodo parado e de disco rotativo (EDR). Foram empregadas como técnicas medidas de potencial de circuito aberto, polarização potenciostática e potenciodinâmica, cronoamperometria, espectroscopia de impedância eletroquímica e microscopia óptica. As características inibidoras do filme formado dependem da natureza dos aditivos e das condições hidrodinâmicas. As interfases contendo BTAH, TTAH, BTAH + TTAH, BTAH + SDS e TTAH + SDS apresentaram uma faixa ampla de potencial em que o cobre se mostrou passivado, chegando a 200 mV para a mistura BTAH + SDS empregando EDR. Densidades de corrente de passivação tão baixas quanto 2µA cm-2 foram observadas com EDR na presença de BTAH + TTAH. As misturas composto triazólico - surfactante mostraram filmes menos resistentes. Os surfactantes isolados não produzem faixa passiva e antecipam o potencial de oxidação do cobre com eletrodo parado. As misturas triazol - DAC só produzem faixa passiva com EDR. Todos os aditivos se mostraram inibidores para a reação H+/H2, destacando-se, com eletrodo parado, BTAH, TTAH e BTAH + TTAH. |
