Santos Filho, S. G. d. (1996). Oxidação térmica rápida do silício: Influência dos procedimentos de limpeza e dos perfis temporais de temperatura na qualidade dos óxidos de porta MOS.
Referência de acordo com a norma ChicagoSantos Filho, Sebastião Gomes dos. Oxidação Térmica Rápida Do Silício: Influência Dos Procedimentos De Limpeza E Dos Perfis Temporais De Temperatura Na Qualidade Dos óxidos De Porta MOS. 1996.
Referência de acordo com a norma MLASantos Filho, Sebastião Gomes dos. Oxidação Térmica Rápida Do Silício: Influência Dos Procedimentos De Limpeza E Dos Perfis Temporais De Temperatura Na Qualidade Dos óxidos De Porta MOS. 1996.
Nota: a formatação da citação pode não corresponder 100% ao definido pela respectiva norma, para gerenciar as citações recomenda-se a utilização do software Zotero
, que permite o upload automático das referências do Oasisbr.