Estudo do acoplamento de troca no sistema NiFe/FeMn e efeitos da irradiação iônica

• Ano de defesa: 2005
• Autor(a) principal: Barrera, Angela Dayana Barra
• Tipo de documento: Tese
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
• Palavras-chave em Português: Fenômenos magnéticos; Magnetic phenomena; Magnetism; Magnetismo
• Link de acesso: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-12112013-095231/

O objetivo do presente trabalho foi produzir e estudar magnética e estruturalmente filmes finos de Ni IND. 81 Fe IND. 19 Mn IND. 50. Os filmes foram produzidos através da técnica de DC magnetron sputtering. Iniciamos nosso estudo em filmes de Si/buffer/ Ni IND. 81 Fe IND. 19 (30nm)/Fe IND 50 Mn IND. 50 (15nm)/Ta(5nm), utilizando-se substratos de Si(100), Si(111) e buffer de Cu e Ta, a fim de determinar as melhores condições para a obtenção de bom acoplamento de exchange entre as bicamadas magnéticas. Em seguida estudamos a propriedades magnéticas de filmes em função da espessura das camadas magnéticas. As amostras produzidas para este estudo foram filmes de Si(100)/Cu(20nm)/ Ni IND. 81 Fe IND. 19 (t IND. FM nm)/ Fe IND. 50 Mn IND. 50(t IND AFM nm)/Ta(3nm), variando-se t IND. FM entre 5 e 53nm e mantendo fixa t IND. AFM em 10 nm e vice-versa. Finalmente estudamos o efeito das irradiações iônicas de He e Ne no acoplamento de exchange. Os filmes foram caracterizados utilizando-se as técnicas de magnetrometria de amostra vibrante, difração de raios-x, refletometria de raios-x, absorção de raios-x na borda do Mn e microscopia óptica de campo próximo (SNOM). Os resultados da caracterização magnética de todos os filmes de Si/buffer/NiFe/FeMn/Ta mostram que eles apresentam acoplamento de exchange logo após a sua obtenção por sputtering. Porém o acoplamento via troca precisa ser induzido através do procedimento field cooling nos filmes de Si/buffer/FeMn/NiFe//Ta. Os resultados das medidas de difração de raios x mostram que os filmes apresentam estrutura cristalina FCC e texturas cristalográficas (111) e (200) quando as camadas magnéticas são depositadas sobre Cu e uma única textura cristalográfica, a textura (111) quando elas são depositadas sobre Ta. Por outro lado, os resultados da caracterização magnética nos indicam que as amostras com buffer de Cu apresentam as melhores propriedades magnéticas alto valor de H IND. exc e baixa coercividade. A análise de EXAFS dos filmes com diferentes buffers nos indica que as amostras depositadas sobre Ta e diretamente sobre silício apresentam maior desordem na sua estrutura fina em relação às amostras depositadas sobre Cu. A caracterização magnética dos filmes irradiados ionicamente mostrou que o valor de Hexc dos filmes irradiados com diferentes doses de He a temperatura ambiente aumentou em comparação ao valor do campo de exchange das amostras antes das irradiações iônicas. Já nas amostras irradiadas com Ne o campo de exchange diminuiu drasticamente. A partir das medidas realizadas no microscópio óptico de varredura em campo próximo (SNOM), em diferentes regiões de amostras antes e depois de serem irradiadas ionicamente observamos que não há variações no valor do campo de exchange.