Sistema de spray pirólise com movimento horizontal microcontrolado para deposição de filmes finos de TiO2.

• Ano de defesa: 2020
• Autor(a) principal: Granoski, Rafael
• Orientador(a): Teixeira, Sergio Ribeiro
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Palavras-chave em Português: Anatase; Fotocatálise; Óxido de titânio; Filmes finos
• Palavras-chave em Inglês: Spray pyrolysis; TiO₂
• Link de acesso: http://hdl.handle.net/10183/211277

Nesta dissertação descrevemos a construção de um equipamento para deposição de filmes finos por spray pirólise para aplicações futuras em fotocatálise. Para demonstrar o funcionamento do equipamento usaremos a deposição de filmes finos de óxido de titânio (TiO2), estes filmes tem suas propriedades bem conhecidas. Os filmes finos de TiO2 desenvolvidos neste trabalho foram depositados pelo método de spray pirólise, utilizando um equipamento capaz de controlar automaticamente a temperatura da base onde o substrato fica acomodado. O equipamento controla também o início, o fim e o movimento do spray nos eixos x e y do plano cartesiano sobre os substratos alvos da deposição. Os parâmetros envolvidos no processo foram definidos a partir de bibliografias estudadas. O tempo para todas as deposições foi definido em 5 min. A vazão do precursor, em temperatura ambiente, foi limitada 8 mL.min−1 para cada deposição. Para as temperaturas de deposição foram usados 350 e 450 °C de temperatura. No tratamento térmico das amostras foram aplicadas temperaturas de 450, 550 e 650 °C. Todas as amostras passaram por tempo de exposição de 3 horas. Como precursor de titânio e de oxigênio para as deposições foi usada uma solução de Isopropóxido de Titânio, Acetilacetona e Etanol. A reação foi projetada por spray sobre substratos de 10 x 20 mm e espessura de 300 nm previamente. Os filmes de TiO2 obtidos foram caracterizados com as técnicas de microscopia eletrônica de varredura, difração de raios-x, espectroscopia difusa UV-vis.