Detalhes bibliográficos
| Ano de defesa: |
2014 |
| Autor(a) principal: |
Ferla, Tania Mara |
| Orientador(a): |
Reis, Ricardo Augusto da Luz |
| Banca de defesa: |
Não Informado pela instituição |
| Tipo de documento: |
Dissertação
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| Tipo de acesso: |
Acesso aberto |
| Idioma: |
por |
| Instituição de defesa: |
Não Informado pela instituição
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| Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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| Departamento: |
Não Informado pela instituição
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| País: |
Não Informado pela instituição
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| Palavras-chave em Português: |
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| Palavras-chave em Inglês: |
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| Link de acesso: |
http://hdl.handle.net/10183/138219
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Resumo: |
Litografia óptica é o processo pelo qual os padrões desenhados pelos projetistas de circuitos integrados são transferidos para o wafer através de ondas de luz. Com a miniaturização dos componentes, aumenta cada vez mais a discrepância entre os padrões projetados e o que é realmente impresso. Tal fato ocorre porque as dimensões dos padrões são menores do que o comprimento de onda utilizado para imprimi-los. Desta forma, é imprescindível que se saiba ou se tenha uma aproximação do que será impresso antes da fabricação dos circuitos para eliminar possíveis defeitos, através da utilização de técnicas de melhoramento de resolução. Essa aproximação é obtida através de simuladores de litografia óptica, que possuem o grande desafio de obter uma aproximação em um tempo viável. Sendo assim, neste trabalho apresentamos o problema de litografia óptica e seu embasamento matemático, bem como técnicas para implementar um simulador litográfico de forma eficiente. Tais técnicas foram utilizadas para o desenvolvimento do simulador Lithux. E, também apresentamos brevemente, técnicas de melhoramento de resolução, onde muitas utilizam simuladores de litografia para reproduzir sua eficiência. |
