Detalhes bibliográficos
| Ano de defesa: |
1992 |
| Autor(a) principal: |
Wolffenbuttel, Adriana Nunes |
| Orientador(a): |
Mautone, Adao |
| Banca de defesa: |
Não Informado pela instituição |
| Tipo de documento: |
Dissertação
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| Tipo de acesso: |
Acesso aberto |
| Idioma: |
por |
| Instituição de defesa: |
Não Informado pela instituição
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| Programa de Pós-Graduação: |
Não Informado pela instituição
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| Departamento: |
Não Informado pela instituição
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| País: |
Não Informado pela instituição
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| Palavras-chave em Português: |
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| Link de acesso: |
http://hdl.handle.net/10183/129430
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Resumo: |
Neste trabalho estudou-se a falta de aderência de eletrodepósitos de cromo, obtidos a partir do banho convencional o (Cr-0 3 250 g/1 e H SO 2,5 g/1), 2 4 à temper-atura de 55 c, sobre eletrodepósitos de níquel sulfamato e outros substratos. Os ensaios de elelrodeposição, com duração de 50 minutos, for-am r-ealizados com fontes de corrente pulsante e de tensão, sendo os depósitos poster-ior-mente avaliados por microscopia ótica e eletrônica, difr-ação de raios X e medidas de rugosidade e brilho. Constatou-se que o aumento do valor- de ripple não influencia as característ icas do depÓsito e não pr-ovoca o seu descascamento. Estas características brilho, tamanho de grão, taxa de deposição e trincas) apresentam redução quando utiliza-se a forma de onda de corrente elétrica pulsante. Verificou-se também que a aderência do cromo sofre influência do substrato e das condiçÕes iniciais de operação, tais como, densidade de cor-rente e tempo de permanência do corpo de prova no banho antes do inicio do ensaio. |
