Desenvolvimento e caracterização físico-química de um novo filme de PECVD na melhora da resistência de união entre a Y-TZP e a cerâmica de cobertura

• Ano de defesa: 2017
• Autor(a) principal: Bitencourt, Sandro Basso [UNESP]
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Estadual Paulista (Unesp)
• Palavras-chave em Português: Zircônio; Cerâmica; Gases em plasma; Resistência ao cisalhamento
• Link de acesso: http://hdl.handle.net/11449/149902

A obtenção de uma união duradoura da interface zircônia/cerâmica de cobertura é uma preocupação para sucesso clínico de restaurações livres de metal e ainda não existem evidências que indiquem uma técnica de tratamento dessa zircônia com melhor previsibilidade e durabilidade. Assim, o objetivo desse estudo foi desenvolver e caracterizar fisico-quimicamente um novo filme por vapor químico melhorado por plasma (plasma enhanced chemical vapor deposition – PECVD) na superfície da zircônia tetragonal policristalina estabilizada por óxido de ítrio (Y-TZP) para melhorar sua resistência de união com cerâmica de cobertura. Para isso, um total de 192 amostras de Y-TZP (13×5,4×5 mm) foram divididas em 6 grupos, de acordo com o tratamento de superfície: controle – sem tratamento (C), jateamento com partículas de óxido de alumínio de 27 µm (Al27), jateamento com partículas de óxido de alumínio de 110 µm (Al110), jateamento com partículas de óxido de alumínio de 250 µm (Al250), aplicação de liner para zircônia (L) e o filme por PECVD (P). A superfície da Y-TZP foi caracterizada por meio da microscopia eletrônica de varredura (MEV), espectroscopia de energia dispersiva (EED), microscopia de força atômica (MFA), perfilometria e energia livre de superfície. A resistência de união entre a Y-TZP e uma cerâmica de cobertura foi testada antes e após fadiga térmica (20.000 ciclos de 5 e 55 °C). Os dados foram submetidos à análise de variância e teste Tukey HSD (α=0,05). Como resultados, foi encontrado que o grupo P não alterou a rugosidade de superfície da Y-TZP (P>0,05 vs controle), enquanto os grupos Al110, Al250 e L apresentaram os maiores valores (P<0,05). Todos os tratamentos melhoraram a energia livre de superfície da Y-TZP, exceto o Al27. O grupo P mostrou os maiores valores de resistência ao cisalhamento (P<0,05), sendo semelhante apenas ao grupo Al27 (P=0,107). Os demais grupos foram similares ao controle (P>0,05). A fadiga térmica não afetou a interface Y-TZP/cerâmica de cobertura. Filmes produzidos pela deposição por plasma não promovem alterações estruturais na Y-TZP e são promissores para melhorar a interface de união Y-TZP/cerâmica de cobertura.