Resistência adesiva de sistemas autocondicionante e convencional frente a diferentes substratos e associação ao laser Nd:YAG: estudo in vitro

• Ano de defesa: 2007
• Autor(a) principal: Marimoto, Ângela Regina Kimie [UNESP]
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Estadual Paulista (Unesp)
• Palavras-chave em Português: Esmalte dentário; Dentina; Adesivos dentarios; Resistência adesiva; Adesivo autocondicionante; Adesivo convencional
• Link de acesso: http://hdl.handle.net/11449/89613

A adesão continua a ser um desafio na Odontologia, principalmente em tecidos morfologicamente distintos e valendo-se de sistemas adesivos de mecanismos de ação também distintos. O objetivo deste estudo in vitro foi comparar a resistência adesiva de dois sistemas (autocondicionante e convencional) em dois substratos (esmalte e dentina), associados ou não à tecnologia laser (Nd:YAG). Foram utilizados 120 dentes bovinos, recém-extraídos, embutidos, que tiveram a superfície de esmalte ou dentina exposta por meio de lixas. Uma área de 3mm de diâmetro na região cérvico-vestibular-mediana foi selecionada para adesão, de acordo com os seguintes grupos: a) G1: AF/ esmalte (adesivo autocondicionante em esmalte seguindo especificação do fabricante); b) G2: AF/ dentina (adesivo autocondicionante em dentina seguindo especificação do fabricante); c) G3: AL/ esmalte (adesivo autocondicionante em esmalte + laser Nd:YAG + fotopolimerização); d) G4: AL/ dentina (adesivo autocondicionante em dentina + laser Nd:YAG + fotopolimerização); e) G5: CF/ esmalte (condicionamento ácido + adesivo convencional em esmalte); f) G6: CF/ dentina (condicionamento ácido + adesivo convencional em dentina); g) G7: CL/ esmalte (condicionamento ácido + adesivo convencional em esmalte + laser Nd:YAG + fotopolimerização); h) G8: CL/ dentina (condicionamento ácido + adesivo convencional em dentina + laser Nd:YAG + fotopolimerização). A resina composta Z 250 foi inserida com auxílio de matriz de teflon e fotopolimerizada com luz halógena, seguida da realização do teste de cisalhamento em máquina universal Emic, com carga de100kgf e velocidade de 0,5mm/min. Os valores médios em MPa obtidos para os diferentes grupos foram: G1 (20,291), G2 (14,142), G3 (23,615), G4 (22,235), G5 (20,899), G6 (11,291), G7 (22,102), G8 (15,980). Após aplicação do teste de ANOVA e Tukey 5%, concluiu-se que...