Filmes de SiOx crescidos em substrato de zircônia tetragonal policristalina estabilizada por ítria: influência na durabilidade da adesão a cimentos resinosos

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2011
Autor(a) principal: Queiroz, José Renato Cavalcanti de [UNESP]
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Tese
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Estadual Paulista (Unesp)
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Link de acesso: http://hdl.handle.net/11449/105537
Resumo: Este estudo comparou o efeito de filmes à base de Si depositados pela técnica reactive magnetron sputtering com o uso do jateamento de partículas de alumina e a aplicação de primer na adesão de cimentos resinoso a superfície de zircônia. Blocos de zirconia (N=300) (4,5×4,5)mm foram sinterizados e regularizados com lixas de SiC (1200), sonicamente limpos com água destilada por 10 min e randomicamente divididos em 30 grupos (n=10) de acordo com 3 parâmetros: 1- cimento resinoso (Panavia/Kuraray; Multilink/Ivoclar; RelyX U100/3M); 2- tratamento de superfície (sem tratamentocontrole, Metal/Zirconia Primer, jateamento com partículas + Metal/Zirconia Primer, Filme A + Monobond S; Filme B + Monobond S); 3- termociclagem (TC). Parâmetros de rugosidade da superfície (Ra, Rz, Sdr) foram avaliados por Microscopia de Interferência e Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV). Cilindros de cimento resinoso foram construídos (Ø: 2,4 mm; altura: 2 mm) sobre a superfície de zirconia. O ensaio de resistência adesiva ao cisalhamento foi realizado no momento inicial (24 h) e após a termociclagem (5o- 55oC, 6.000 ciclos) utilizando máquina de ensaio universal (1 mm/min). As superfícies fraturadas foram analisadas por microscopia ótica (30×) e MEV (100× e 2000×) para categorizar o modo de falha. Adicionais blocos de zirconia (15×15)mm confeccionados para análises por Espectroscopia por Retroespalhamento de Rutheford (RBS), e Trabalho de Adesão (WA) após os tratamentos de superfície. Os dados foram estatisticamente analisados por Anova 3-fatores e 11 teste Tukey (5%). Fotomicrografias revelaram microdefeitos nos filmes. Os resultados de Wa mostraram que os filmes melhoraram a molhabilidade da superfície. As análises por RBS mostraram que a concentração elementar dos filmes...