Estudo do processo de formação de nanopartículas de GeSi em matriz de sílica por técnicas de luz síncrotron

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa:	2011
Autor(a) principal:	Gasperini, Antonio Augusto Malfatti, 1982-
Orientador(a):	Não Informado pela instituição
Banca de defesa:	Não Informado pela instituição
Tipo de documento:	Tese
Tipo de acesso:	Acesso aberto
Idioma:	por
Instituição de defesa:	[s.n.]
Programa de Pós-Graduação:	Não Informado pela instituição
Departamento:	Não Informado pela instituição
País:	Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:	Nanopartículas de silício-germânio Raios X - Difração Espalhamento de raios X em incidência rasante para pequeno ângulo Estrutura fixa de absorção de raio X estendido (EXAFS) Silicon germanium nanoparticles X-rays - Diffraction Grazing incidence small angle X-ray scattering Extended X-ray absorption fine structure
Link de acesso:	https://hdl.handle.net/20.500.12733/1616647
Resumo:	Orientadores: Gustavo de Medeiros Azevedo, Ângelo Malachias de Souza, Eduardo Granado Monteiro da Silva

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