Diniz, J. A. (1996). Formação de filmes finos de oxinitreto de silicio (SiOxNy) por implantação de ions de nitrogenio (N2+) e de oxido nitrico (NO+).
Referência de acordo com a norma ChicagoDiniz, José Alexandre. Formação De Filmes Finos De Oxinitreto De Silicio (SiOxNy) Por Implantação De Ions De Nitrogenio (N2+) E De Oxido Nitrico (NO+). 1996.
Referência de acordo com a norma MLADiniz, José Alexandre. Formação De Filmes Finos De Oxinitreto De Silicio (SiOxNy) Por Implantação De Ions De Nitrogenio (N2+) E De Oxido Nitrico (NO+). 1996.
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