Obtenção e caracterização de filmes finos e ultra-finos de oxido e oxinitreto de silicio em sistema "home-made" de plasma remoto

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa:	1999
Autor(a) principal:	Sotero, Anna Paula da Silva
Orientador(a):	Não Informado pela instituição
Banca de defesa:	Não Informado pela instituição
Tipo de documento:	Tese
Tipo de acesso:	Acesso aberto
Idioma:	por
Instituição de defesa:	[s.n.]
Programa de Pós-Graduação:	Não Informado pela instituição
Departamento:	Não Informado pela instituição
País:	Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:	Plasma (Gases ionizados) Deposição química de vapor Filmes finos Oxidação Micro-ondas
Link de acesso:	https://hdl.handle.net/20.500.12733/1588491
Resumo:	Orientadores: Peter Jurgen Tatsch, Jose Alexandre Diniz

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