Estudo da rugosidade de filmes finos de telureto de cádmio crescidos por epitaxia de paredes quentes

• Ano de defesa: 2008
• Autor(a) principal: Ribeiro, Igor Renato Bueno
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Federal de Viçosa; BR; Física Teórica e Computacional; Preparação e Caracterização de Materiais; Sensores e Dispositivos.; Mestrado em Física Aplicada; UFV
• Palavras-chave em Português: Rugosidade; Telureto de cádmio; Epitaxia de paredes quentes; Roughness; Cadmium telluride; Hot wall epitaxy; CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA::FISICA DA MATERIA CONDENSADA
• Link de acesso: http://locus.ufv.br/handle/123456789/4226

Neste trabalho estudamos o efeito da temperatura do substrato sobre os expoentes de Hurst (H) e de crescimento (β), em filmes policristalinos de telureto de cádmio crescidos sobre vidro coberto com óxido de estanho dopado com flúor. Para medir os expoentes e suas dependências em relação à temperatura crescemos amostras por 30 a 660 minutos e variamos as temperaturas dos substratos no intervalo de 150 a 300 ºC. Os perfis de altura da superfície das amostras foram medidas em varreduras de 300 μm através de um perfilômetro (XP1 - AMBIOS), o qual possui resolução vertical de 1,5 Å em 10 mm e resolução lateral de 100 nm. A partir desses dados foram determinados os expoentes H e β. O expoente de Hurst aumenta linearmente de 0,72 a 0,80 e o expoente de crescimento aumenta exponencialmente de 0,14 a 0,62, em função da temperatura. A rugosidade global também aumenta com a temperatura do forno do substrato, tornando-a um bom parâmetro para o controle da rugosidade.