Síntese de nanoestruturas de carbono utilizando plasmas frios

• Ano de defesa: 2013
• Autor(a) principal: CARVALHO, Flávio Henrique Oliveira
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Federal do Triângulo Mineiro; Instituto de Ciências Tecnológicas e Exatas - ICTE::Programa de Mestrado Profissional em Inovação Tecnológica; BR; UFTM; Programa de Mestrado Profissional em Inovação Tecnológica
• Palavras-chave em Português: Materiais nanoestruturados; Carbono; Deposição química; Vapor; Microondas; Silício; Engenharia de Materiais e Metalúrgica
• Link de acesso: http://localhost:8080/tede/handle/tede/76

O objetivo deste trabalho se resume no aperfeiçoamento de uma das técnicas para obtenção de filmes finos compostos por materiais de carbono nanoestruturados. Estes filmes foram depositados em lâminas de silício, com recobrimento de metais de transição. O processo de deposição ocorreu em temperaturas relativamente baixas, sem a necessidade de prévio aquecimento do substrato. A técnica utilizada é a deposição química de vapor assistida por plasma (PECVD) realizado em um sistema reprodutível de baixo custo, graças a utilização de micro -ondas como fonte de radiação além da utilização de acetileno como fonte de carbono. Trabalhando com o sistema de vácuo com valores de pressão da ordem de 210 mTorr, é possível um gasto mínimo com reagentes para síntese do filme e geração quase nula de resíduos tornando o processo amplamente viável economicamente e ambientalmente. As etapas do processo foram monitoradas com aferição da pressão e temperatura durante a formação dos filmes e posteriormente foram caracterizados utilizando microscopia eletrônica de varredura, espectroscopia EDS e Raman. A técnica se mostrou satisfatória para obtenção de nanoestruturas de carbono com diversas características, mais especificamente nanofibras de carbono, sem danos ao sistema substrato -catalisador, graças às baixas temperaturas utilizadas em todas as deposições.