Estudo sobre a formação da solução sólida em filmes finos de zrn+si depositados via magnetron sputtering reativo

• Ano de defesa: 2023
• Autor(a) principal: Santos, Júlio César Valeriano dos
• Orientador(a): Tentardini, Eduardo Kirinus
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Programa de Pós-Graduação: Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais
• Palavras-chave em Português: Filmes finos; Solução sólida; ZrN; Si3N4
• Palavras-chave em Inglês: Magnetron sputtering; Magnetron sputtering reativo; Thin films; Solid solution; Reactive magnetron sputtering
• Área do conhecimento CNPq: ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA
• Link de acesso: https://ri.ufs.br/jspui/handle/riufs/17932

ZrN thin films with 1.6% Si addition were deposited via reactive magnetron sputtering and characterized by RBS, SEM-FEG, GAXRD, XPS and high temperature oxidation tests, aiming to investigate how structurally silicon is inserted in ZrN matrix. GAXRD analyses show a reduction in lattice parameter and grain size due to Si incorporation and XPS analyses demonstrate Si is present in nitride form. Such observations suggest the non-formation of substitutional or interstitial solid solution with ZrN, but the presence of Si3N4, even in low Si concentrations.