Exportação concluída — 

“Propriedades Eletrocrômicas de Filmes Finos de WO3, WO3:Li+ eWO3:Li+ :TiO2”.

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 2013
Autor(a) principal: Lucio, Caroline Schneider
Orientador(a): Avellaneda, César Antonio Oropesa
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Federal de Pelotas
Programa de Pós-Graduação: Programa de Pós-Graduação em Ciência e Engenharia de Materiais
Departamento: Centro de Desenvolvimento Tecnológico
País: Brasil
Palavras-chave em Português:
WO3
Área do conhecimento CNPq:
Link de acesso: http://guaiaca.ufpel.edu.br/handle/prefix/8663
Resumo: O presente projeto propõe estudar filmes finos de óxido de tungstênio (WO3), óxido de tungstênio dopado com sal de lítio (WO3:Li+) e óxido de tungstênio dopados com sal de lítio e óxido de titânio (WO3:Li+:TiO2) preparados pelo processo sol-gel. Os sóis foram obtidos utilizando tungstênio metálico, sal de lítio (LiCF3SO3) e alcóxido de titânio (isopropóxido de titânio) como precursores, etanol como solvente e ácido acético glacial como catalisador. Os filmes foram preparados pela técnica de dipcoating sobre um substrato condutor eletrônico (FTO Pilkington Glass). Foi realizado um estudo sistemático para a obtenção de filmes com as propriedades eletroquímicas desejadas. Os filmes depositados após rápida hidrólise no ar foram submetidos a um tratamento térmico 240 0C durante uma hora em atmosfera de ar. Os filmes finos de WO3 e WO3 dopados foram estudados através de diferentes técnicas eletroquímicas, tais como cronoamperometria, voltametria cíclica, impedância eletroquímica e medidas opto-eletrônicas. As medidas óticas (UV-Vis) foram realizadas para estudar os processos de intercalação e desintercalação. Medidas de raios-X foram realizadas para estudar o caráter amorfo ou cristalino dos filmes. Para estudar a morfologia dos filmes foram realizadas medidas de microscopia eletrônica de varredura (MEV) e microscopia de força atômica (AFM). O objetivo do presente projeto é preparar e caracterizar filmes finos, que farão parte do eletrodo de trabalho de um dispositivo eletrocrômico, com o intuito de se obter as propriedades eletrocrômicas satisfatórias.