Caracterização de filmes finos nanoestruturados de WOx obtidos por evaporação térmica

• Ano de defesa: 2013
• Autor(a) principal: Corrêa, Diogo Silva
• Orientador(a): Garcia, Irene Teresinha Santos
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Federal de Pelotas
• Programa de Pós-Graduação: Programa de Pós-Graduação em Química
• Departamento: Centro de Ciências Químicas, Farmacêuticas e de Alimentos
• País: Brasil
• Palavras-chave em Português: Óxidos de tungstênio; Filmes finos; Evaporação térmica; Estruturação; Estrutura cristalina; Tungsten oxides; Thin films; Thermal evaporation; Structuring; Crystalline structure
• Área do conhecimento CNPq: CNPQ::CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::QUIMICA
• Link de acesso: http://guaiaca.ufpel.edu.br/handle/prefix/8408

Óxidos de tungstênio (WOx) constituem uma classe de semicondutores com elevado potencial para aplicação em células fotovoltaicas devido às propriedades estruturais e químicas. Uma das peculiaridades desses óxidos está relacionada à capacidade do tungstênio alcançar número de oxidação entre +VI e –II que associado às modificações na superfície e morfologia, possibilita a fabricação de dispositivos eletrocrômicos e optoeletrônicos. Neste trabalho foram obtidos filmes finos de óxido de tungstênio através da técnica de evaporação térmica, variando as condições experimentais: tipos de substrato (silício recoberto com ouro, denominado Au/Si ou vidro revestido com óxido de estanho e índio, denominado ITO/vidro), tempo de deposição (t) e temperatura de substrato (Ts). A composição química foi avaliada na superfície e em profundidade. Também foi avaliado o efeito dos parâmetros de deposição sobre o modo de estruturação e sobre a estrutura cristalina dos filmes. O aumento da temperatura de substrato afeta diretamente a espessura dos filmes de WOx, próximo a 200 nm quando obtidos em Ts mais elevada (600 °C). Foi verificada uma matriz recoberta com óxido de tungstênio para filmes depositados sobre ITO/vidro e formação de grãos com diâmetro de até 800 nm nas amostras obtidas em substrato Au/Si. Os filmes obtidos sobre substrato Au/Si são cristalinos e apresentam predominantemente fase hexagonal (h-WO3). Para filmes obtidos em substrato ITO/vidro é observada uma mistura entre elementos, desenvolvendo a fase cristalina romboédrica.