Cresimento e caracterizações de óxidos pela técnica MOCVD: aplicações em medicina e odontologia

• Ano de defesa: 2016
• Autor(a) principal: OLIVEIRA, Nathalia Talita Candido de
• Orientador(a): FALCÃO, Eduardo H. Lago
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade federal de Pernambuco
• Programa de Pós-Graduação: Programa de Pos Graduacao em Ciencia de Materiais
• País: Brasil
• Palavras-chave em Português: Nanotecnologia; Nanomateriais; Semicondutores; Óxidos
• Link de acesso: https://repositorio.ufpe.br/handle/123456789/21305

Materiais nanoestruturados são importantes devidoa suas numerosas aplicabilidades. A versatilidade da técnica Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) permite a preparação de materiais semicondutores com morfologias interessantes, sendo o controle de parâmetros o responsável pelo direcionamento das morfologias obtidas. Nanofios de óxidos semicondutores são considerados materiais importantes devido às propriedades peculiares que apresentam para uso em medicina e odontologia. Os óxidos de gálio e de zinco preenchem os requisitos básicos para tais aplicações, tendo em vista suas propriedades antiinfecciosas, antiinflamatórias, sendo importantes no tratamento de doenças ósseas e cancerígenas. A execução da pesquisa em laboratório evidenciou que os compostos que contém o elemento químico gálio são responsáveis pela eliminação de microorganismos patogênicos, visto que a ação do gálio como um “cavalo de Tróia” favorece o não metabolismo de certos microorganismos. Neste estudo, imagens de MEV mostraram a obtenção da morfologia “alboaurea-like” para o óxido de zinco. Resultados de DRX mostrou a obtenção da fase wurtzita para este óxido. A análise de fotoluminescência evidenciou uma emissão intensa que esta de acordo com as emissões reportadas na literatura. As imagens de MEV mostraram a obtenção da morfologia “urchin-like” para o óxido de gálio cristalino. Os resultados de MET e DRXpara o Ga2O3comprovaram a obtenção da fase monoclínica. A análise estrutural do Ga2O3 por DRX indicou uma possível fase amorfa presente no material cristalino. A análise luminescente do Ga2O3apresentou um pico intenso em ~700 nm que não decresce com a mudança de potencial de excitação ou abaixamento de temperatura. Esse comportamento do óxido de gálio cristalino torna-o um material promissor para aplicações médicas no que tange a substituição de agentes fotossensitivos em terapias fotodinâmicas. Para o pó obtido por pirólise de TEGa a análise estrutural por DRX comprovou a obtenção da fase amorfae testes in vitro utilizando este pó amorfo foram realizados com bactérias específicas (Pseudomonasaeruginosas e Staphylococus aureus) comprovando a ação deletéria dos compostos químicos que contém gálio a partir da inibição do desenvolvimento bacteriano.