Estudo da cinética de formação da liga pd-si amorfa.

Detalhes bibliográficos
Ano de defesa: 1990
Autor(a) principal: CARVALHO, Kenia.
Orientador(a): Não Informado pela instituição
Banca de defesa: Não Informado pela instituição
Tipo de documento: Dissertação
Tipo de acesso: Acesso aberto
Idioma: por
Instituição de defesa: Universidade Federal de Campina Grande
Brasil
Centro de Ciências e Tecnologia - CCT
PÓS-GRADUAÇÃO EM ENGENHARIA MECÂNICA
UFCG
Programa de Pós-Graduação: Não Informado pela instituição
Departamento: Não Informado pela instituição
País: Não Informado pela instituição
Palavras-chave em Português:
Link de acesso: http://dspace.sti.ufcg.edu.br:8080/jspui/handle/riufcg/2634
Resumo: A taxa crítica de resfriamento para formação de estrutura amorfa, tc, das ligas Pd82 Si18 e Pd84 Si16, foram calculadas a partir do diagrama TRC, de acordo com o modelo de D.R.Uhlmann. A influência das aproximações usadas para expressar a variação da energia livre volumétrica de GIBBS, AGv, e para expressar a variação da viscosidade, n(T), com a temperatura na zona superresfriada, sobre o valos de TC calculado, foram analisados. Os valores de TC, calculados neste trabalho para ambas composições da liga Pd Si, estão de acordo com os dados experimentais reportados pela literatura, quando se usa a aproximação de J. D. Hoffmann para AGv, e a equação de P. Ramachandrarao, baseada na expressão de Doolitle, para descrever a viscosidade na região superresfriada. Pelo presente estudo comprovou-se a aplicabilidade do modelo de D.R. Uhlmann para cálculo de TC, demonstrando porém, a grande sensibilidade desses valores calculados às aproximações aplicadas no cálculo do diagrama TRC.