ELETRODEPOSIÇÃO DE FILME FINO DE ZnO PARA APLICAÇÃO EM CÉLULAS SOLARES

• Ano de defesa: 2012
• Autor(a) principal: BEZERRA, ISRAEL FREITAS
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Estadual do Ceará
• Palavras-chave em Português: Óxido de zinco
• Link de acesso: https://siduece.uece.br/siduece/trabalhoAcademicoPublico.jsf?id=83991

<div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">RESUMO</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">O óxido de zinco (ZnO) tem diversas aplicações na indústria eletro-eletrônica. Isto se deve</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">às suas propriedades mecânicas e optoeletrônicas, alta estabilidade química, largo band</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">gap, abundância na natureza e baixa toxidade. Os métodos físicos de obtenção deste</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">material com características que propiciem sua aplicação em células fotovoltaicas são de</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">custo elevado. No entanto, sua produção por processo eletrolítico apresenta diversas</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">vantagens, tais como: controle eficaz da morfologia e espessura do filme a partir de</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">parâmetros eletroquímicos, taxa de deposição relativamente maior, e a viabilidade de</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">deposição dos filmes sobre diversos tipos de substratos a baixas temperaturas. Portanto, o</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">presente trabalho teve por objetivo contribuir para a elucidação e a caracterização do</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">processo de obtenção de ZnO eletrodepositado sobre substrato de cobre. Para este feito,</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">recorreu-se às técnicas eletroquímicas, tendo como suporte, as técnicas de caracterização</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">de superfície: difratometria de raios-X (DR-X), microscopia eletrônica de varredura (MEV) e</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">microscopia de força atômica (MFA). A partir da análise do processo por técnicas</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">eletroquímicas, identificou-se os parâmetros ótimos para a deposição de filme fino de ZnO,</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">sendo verificado que a deposição de ZnO ocorre no intervalo de potencial de -0,7 a -1,1 V. A</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">taxa de deposição é máxima no potencial de -1,05 V. O pH inicial da solução foi ajustado</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">para 6,5 e a temperatura em torno de 22 °C. Observou-se que o aumento da concentração</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">de íons Zn+2 em solução promoveu o deslocamento do potencial de pico de deposição para</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">valores mais positivos e, em altas concentrações (5.10-1 M), a deposição de ZnO foi</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">desfavorecida. As curvas potenciostáticas apontaram que filmes muito finos, com espessura</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">em torno de 140 nm (para o tempo de deposição de 40 min) foram obtidos. O filme de ZnO</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">eletrodepositado nos diferentes potenciais apresentou características semicondutoras,</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">&#61555;&#61472; &#61504; &#61472;&#61489;&#61488;&#61485;&#61491;&#61472;&#61480; &#61527; &#61486;m)-1. As imagens micrográficas revelaram que o filme de eletrodepósito de ZnO</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">é formado por estruturas lamelares, semelhantes a plaquetas, e que este tipo de morfologia</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">independe do potencial aplicado, estando possivelmente associado ao eletrólito de suporte</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">(eletrólito sulfato), visto que os parâmetros: potencial, tempo e temperatura de deposição</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">não promoveram mudanças significativas no aspecto morfológico do filme. Verificou-se que</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">filmes depositados à temperatura ambiente não apresentaram picos de difração, como</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">referenciado pela literatura.</span></font></div><div style=""><font face="Arial, Verdana"><span style="font-size: 13.3333px;">Palavras-chave: Óxido de zinco. Eletrodeposição. Caracterização. Células solares</span></font></div>