Deposição e caracterização de filmes ultrafinos de óxido de titânio depositados por Sputtering RF

• Ano de defesa: 2012
• Autor(a) principal: Albuquerque, Diego Aparecido Carvalho
• Orientador(a): Cruz, Térsio Guilherme de Souza
• Banca de defesa: Arnold, Francisco José
• Tipo de documento: Dissertação
• Tipo de acesso: Acesso aberto
• Idioma: por
• Instituição de defesa: Universidade Federal de São Carlos
• Programa de Pós-Graduação: Programa de Pós-Graduação em Ciência dos Materiais - PPGCM-So
• País: BR
• Palavras-chave em Português: filmes ultrafinos; óxido de titânio; sputtering
• Palavras-chave em Inglês: thin films; titanium oxide; sputtering; óptical properties; afm; roughness; fractal dimension
• Área do conhecimento CNPq: CIENCIAS EXATAS E DA TERRA::FISICA::FISICA DA MATERIA CONDENSADA
• Link de acesso: https://repositorio.ufscar.br/handle/20.500.14289/1167

This work studied ultrathin films of titanium oxide deposited by the technique r. f. reactive sputtering with different oxygen flows and different deposition times. Optical properties were studied (ultra-violeta/Visível) and the surface morphology (Atomic Force Microscopy). The composition and structural properties of the films were analyzed by X-ray diffraction and Rutherford Backscattering Spectroscopy. The films are amorphous and rough (fractal dimension around 2.6 to 2.7 and roughness around 1.6 to 2.5 nm). The stoichiometry was fairly close to the titanium dioxide (TiO2). The optical energy Gap obtained by three different models presented values between 3.0 to 3.5 eV.