Mostrando 1 - 5 resultados de 5 para a busca '(( decrease during decrease not decrease ) OR ( decrease to decrease sputtering effect ))~', tempo de busca: 0,87s Refinar Resultados
1
Publicado em 2004
... da dose total dos íons é efetivamente implantada, devido ao processo de sputtering, que ocorre durante...
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Tese
2
Publicado em 2015
... sample holder ?; magnetic field application during deposition HD; substrate temperature TS] on the values...
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Tese
3
Publicado em 2014
... decreases and functionalization increases in the modern electronics further size reduction is getting...
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