Mostrando 1 - 20 resultados de 58 para a busca '(( decrease at decrease sputtering process ) OR ( python python decrease decrease after ))*', tempo de busca: 3,46s Refinar Resultados
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Publicado em 2010
...Cylindrical hollow cathode magnetron sputtering (HCMS) system was used to deposit crystalline...
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Publicado em 2022
... by DC reactive magnetron sputtering, with increasing V contents from 0, 4.8 and 11.0 at.%. All coatings exhibit...
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18
Publicado em 2014
... to study reactive deposition of oxynitrides. The results show that the addition of N2 to the process avoids...
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19
por Cunha, L.
Publicado em 2000
...As superfícies internas dos equipamentos de processamento e transformação de materiais plásticos...
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20
Publicado em 2024
... compressive strength (fpk,est) of CPBs after a 28-day curing period. CPBs were prepared with...
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