Bernardi, M., Lee, E., Lisboa-filho, P., Leite, E., Longo, E., & Varela, J. [. (2001). TiO2 thin film growth using the MOCVD method.
Referência de acordo com a norma ChicagoBernardi, M.i.b., E.j.h Lee, P.n Lisboa-filho, E.r Leite, E. Longo, e J.a [UNESP] Varela. TiO2 Thin Film Growth Using the MOCVD Method. 2001.
Referência de acordo com a norma MLABernardi, M.i.b., et al. TiO2 Thin Film Growth Using the MOCVD Method. 2001.
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